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本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
應用領(lǐng)域：
本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產(chǎn)品型號 |
CY-MSZ254-II-DC-SS |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ254mm X 300mm |
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觀察窗口 |
前置式 |
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腔體材料 |
304不銹鋼 |
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開啟方式 |
上蓋開啟及前開門 |
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真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵 |
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分子泵 |
大抽速渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
ISO63 |
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排氣接口 |
KF16 |
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系統(tǒng)真空 |
1.0×10-4Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
前級泵抽速1.1L/s |
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輸出功率 |
直流電源500W |
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其他參數(shù) |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
710*480*580 |
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