等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。為了提高鍍膜質量，本臺二合一鍍膜儀采用的不銹鋼真空腔體配合精密分子泵的高真空設計，較高的真空度能夠有效的提升鍍膜純凈度和均勻度，有利于得到更好的實驗效果。樣品臺有旋轉和加熱功能，能夠提高薄膜的附著力和成膜的均勻度。本儀器體積小，節省空間，能夠置于試驗臺上使用，非常適合各大高校及研究機構選用。

小型高真空二合一鍍膜儀適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等。

小型高真空二合一鍍膜儀技術參數：

小型高真空二合一鍍膜儀
樣品臺	尺寸	φ138mm	控溫精度	±1℃
	加熱溫度	*高500℃	轉速	1-20rpm可調
直流濺射頭	數量	2”×1
蒸發系統	蒸發源	鎢絲籃	*高溫度	1700℃
	熱電偶	S型熱電偶
真空腔體	腔體尺寸	φ170mm×200mm	觀察窗口	石英觀察窗 φ70
	腔體材料	不銹鋼	開啟方式	上開啟式
真空系統	產品型號	CY-GZK103-A	抽氣接口	KF40
	分子泵	CY-600	排氣接口	KF16
	前極泵	旋片泵	真空測量	復合真空計
	極限真空	1.0E-5Pa
	抽氣速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa
濺射電源配置	數量	直流電源×1	Max 輸出功率	150w
其他	供電電壓	AC220V,50Hz	整機尺寸	600mm×300mm×470mm
	整機功率	1.5kw	整機重量	40kg

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