- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
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- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 真空熱壓機
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- 高性能真空泵
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- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
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- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號
CY-MSZ210-I I -DCDC-SS
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ210mm X260mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
304不銹鋼
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復(fù)合真空計，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統(tǒng)真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數(shù)量
直流電源兩套
輸出功率
500W
其他參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
4kW
整機尺寸
550mm X 350mm X900mm
